标识牌制作过程，不清楚看这里！

有很多生产工艺，在生产标牌时，我们会选择腐蚀标牌、涂层等工艺。

（1） 碱洗层：在反应容器中制备20-40%氢氧化钠溶液作为蚀刻液，根据硅片的结合深度将硅片加入碱孔进行腐蚀。确定腐蚀时间（通常为30-120秒）。

使用开槽勺子提起硅材料的表面，以确保其明亮且无杂质。

（2） 残留碱清洗：清除清洗槽中附着在硅片上的残留碱。

1.向波浪超声中注入足够的纯水，以浸没硅片。

2.用纯水清洗10-15kg硅片，倒入清洗槽，打开清洗开关超声，每10分钟旋转一次硅片，以避免杂质，清洗时避免分层。来吧

清洗20分钟，换两次水，关闭超声波清洗开关，并从水箱中排出清洗水。

3.使用高纯水两次（每次10分钟），每3分钟转动一次硅片，关闭超声波开关，排空清洗水，转动硅片，去除杂质和残留硅片。清洁它。水被冲走了。

4.氟化氢浸泡：将15%至25%的氢氟酸溶液丢弃在浸泡罐中。将硅片浸入浸泡槽中5-6分钟，搅拌硅片以避免分层。

5、冲洗残酸：冲洗冲洗槽中的硅酮残酸。

A、 向超声波中注入足够的纯水，以浸没硅片。

B、 用纯水清洗10-15kg硅片，倒入清洗槽，打开清洗开关，每10分钟转动一次硅片，以避免杂质进入，防止清洗。

超声工作时间根据工作场所的具体规定进行。