识别卡系统腐蚀工艺介绍，快速收集！

1.碱洗层：将20-40%的氢氧化钠溶液制成反应容器中的腐蚀性液体，并标记有腐蚀性碱端口，腐蚀时间一般由连接深度30-120秒的符号决定

使用开槽勺子提起硅材料的表面，以确保其明亮且无杂质。

2.清洗残留碱：清洗清洗罐标签上的残留碱。

3、超声波（超声”波清洗：向（超声。此开关始终每10分钟翻转一次，以使杂质混合且无法清洁。

清洗20分钟，换两次水，关闭超声波清洗开关，并从水箱中排出清洗水。再次使用高纯度水两次（一次10分钟），每3分钟翻转一次标志，然后关闭开关超声。排空冲洗水，翻转，然后冲洗杂质和残留物标识牌上的冲洗水。氢氟酸浸没：浸没罐用15%至25%的氢氟酸溶液浸没。在游泳池中浸泡5-6分钟，并混合盘子，以防堆积。

使用1:15-1:20的酸混合物约30S。清洗残酸：清洗精炼罐中的残酸。

B、 用纯水清洗10-15公斤标签，倒入清洗槽，每10分钟打开清洗开关

始终将标牌倒置，使夹杂物与杂质混合，无法清洁。

D、 用高纯度水清洗，并冲洗掉所有剩余标签杂质和清水。

E、 脱水：每5-6公斤标签，用纱布脱水2分钟。

F、 清洁：将标牌放在清洁槽中，冲洗并混合。

G、 干燥：标记花篮，锉不到2cm厚，用塑料棒通风。

1湿式蚀刻工艺：将标志板放入浸泡池中，体积不得超过浸泡池的2/3。

蚀刻液为49-59%工业纯氢氟酸的纯蚀刻液，浸泡12小时，然后释放酸并转移硅。

2.金属去污：配制金水溶液，根据温度变化将其稀释至30-50%浓度，浸泡12小时，释放酸性溶液，清洗标识牌。

3、二次湿法蚀刻工艺：将标志倒入浸泡槽中，体积不得超过浸泡槽的2/3。

碱液比为HF:NH4F=（6-10）工业氢氟酸，浸渍：112小时后释放